光刻与纳米工程
SEM(扫描电镜)与FIB(聚焦离子束)光刻配件
ELPHY
Plus
ELPHY
Quantum
激光工作台(Laser stage)
半导体导航
最新消息
公司介绍
招聘职位
产品代理
参考信息
活动信息
课程
solutions
SEM & FIB lithography kits
Laser stage
紧凑式激光干涉控制工作台 (Compact laser interferometer controlled stage)
使用Raith的CLS(紧凑式激光干涉控制工作台技术)取代原有的SEM工作台,可提高基于SEM光刻工具的
ELPHY
的性能。
被极大提高的定位精确度,具有拼接(
stitching
)和高精度
mix&match
(混合光刻)功能的自动曝光机,带有干涉仪的闭路控制的压电式直流电机混合技术,完全独立与SEM和FIB的设置,因而对于CLS定位精度不需再度校准。
CLS是适用于众多SEM和FIB单透镜设备,也可用与全新设备。但无论在哪种情况下,即使在项目预算初期,都要对设备和相应投资进行全面的评估和讨论。
详细信息请向我公司垂询。
1/2
next page
ELPHY ( incl. CLS) brochure
References
Gallery
Download Adobe Acrobat Reader
Raith Micrograph Award 2010 - final stage
Sales
Europe
North America
Asia/Pacific
Support
Europe
North America
Asia/Pacific
Your local representative for
...nanolithography
Select...
Australia
Canada
China
France
Great Britain
India
Israel
Italy
Japan
Korea
Malaysia
Russia / C.I.S.
Singapore
Taiwan
Thailand
Turkey
USA
Vietnam
...semiconductor
Select...
Australia
Canada
China
France
Great Britain
India
Israel
Italy
Japan
Korea
Malaysia
Russia / C.I.S.
Singapore
Taiwan
Thailand
Turkey
USA
Vietnam
Email your questions about >紧凑式激光干涉控制工作台 (Compact laser interferometer controlled stage)<
Download Raith >Info letter<