Raith GmbH
Home Raith GmbH
Legal notice
Visitors info
SiteMap
Raith GmbH
Raith GmbH
Raith GmbH
To start page
Raith GmbH Raith GmbHRaith GmbH
Raith GmbH english chinese Raith GmbH
Raith GmbH
Raith Logo
Raith GmbH
Raith GmbH Raith GmbH
kopf_pfeil bd_gr bd kopf_registration
bd
bd
bdkopf_pfeil
bd bd_hb bd
Navigation
bd_hb
nav_pfeil_db 光刻与纳米工程
bd_hb
nav_pfeil_db SEM(扫描电镜)与FIB(聚焦离子束)光刻配件
bd_hb
nav_pfeil_db ELPHY Plus
bd_hb
nav_pfeil_db ELPHY Quantum
bd_hb
nav_pfeil_db 激光工作台(Laser stage)
bd_hb
nav_pfeil_db 半导体导航
bd_hb
bd_hb
Navigation
bd_hb
nav_pfeil_db 最新消息
bd_hb
nav_pfeil_db 公司介绍
bd_hb
nav_pfeil_db 招聘职位
bd_hb
nav_pfeil_db 产品代理
bd_hb
nav_pfeil_db 参考信息
bd_hb
nav_pfeil_db 活动信息
bd_hb
nav_pfeil_db 课程
bd_hb

bd_hb
nav_sitesearch
bd_hb
bd
bd nav_pfeil_grsolutions nav_pfeil_grSEM & FIB lithography kits nav_pfeil_grLaser stage  back_navzeile_rechts
bd
bd

紧凑式激光干涉控制工作台 (Compact laser interferometer controlled stage)

bd

使用Raith的CLS(紧凑式激光干涉控制工作台技术)取代原有的SEM工作台,可提高基于SEM光刻工具的 ELPHY 的性能。

被极大提高的定位精确度,具有拼接( )和高精度 (混合光刻)功能的自动曝光机,带有干涉仪的闭路控制的压电式直流电机混合技术,完全独立与SEM和FIB的设置,因而对于CLS定位精度不需再度校准。
CLS是适用于众多SEM和FIB单透镜设备,也可用与全新设备。但无论在哪种情况下,即使在项目预算初期,都要对设备和相应投资进行全面的评估和讨论。
详细信息请向我公司垂询。
1/2  nav_pfeil_dbnext page
bd
bd
bd
bd
nav_pfeil_gr
nav_pfeil_gr
nav_pfeil_gr
nav_pfeil_gr
bd
printopt
bd
bd
latest news
bd bd_gr bd
nav_pfeil_gr bd bd Raith Micrograph Award 2010 - final stage bd
bd
ask us!
bd bd_gr bd
bd bd bd Sales bd
nav_pfeil_gr bd bd Europe bd
nav_pfeil_gr bd bd North America bd
nav_pfeil_gr bd bd Asia/Pacific bd
bd bd_gr bd
bd bd bd Support bd
nav_pfeil_gr bd bd Europe bd
nav_pfeil_gr bd bd North America bd
nav_pfeil_gr bd bd Asia/Pacific bd
bd bd_gr bd
nav_pfeil_gr bd bd Your local representative for
...nanolithography
bd
bd bd bd
  bd
bd bd_gr bd
nav_pfeil_gr bd bd ...semiconductor bd
bd bd bd
  bd
bd bd_gr bd
nav_pfeil_gr bd bd Email your questions about >紧凑式激光干涉控制工作台 (Compact laser interferometer controlled stage)< bd
bd bd_gr bd
nav_pfeil_gr bd bd Download Raith >Info letter< bd
bd